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昆山麥沄顯示技術(shù)申請垂直LED芯片結(jié)構(gòu)及制作方法專利,成本低,不遮光,出光效率高

字體變大  字體變小 發(fā)布日期:2024-11-04  瀏覽次數(shù):866
核心提示:專利摘要顯示,本申請公開了一種垂直LED芯片結(jié)構(gòu)及制作方法,包括導(dǎo)電襯底;所述導(dǎo)電襯底下設(shè)有背面金屬層;所述導(dǎo)電襯底上設(shè)有鍵合金屬層;所述鍵合金屬層上設(shè)有反射鍵合金屬層;所述反射鍵合金屬層上有歐姆接觸金屬層;所述歐姆接觸金屬層上設(shè)有鈍化絕緣層;所述鈍化絕緣層上設(shè)有外延材料層;所述外延材料層上設(shè)有絕緣保護層;所述絕緣保護層上設(shè)有金屬手指及焊盤電極本申請利用巨量轉(zhuǎn)移技術(shù)和先進封裝技術(shù),用micro LED芯片制作傳統(tǒng)尺寸的垂直LED芯片,成本低,不遮光,出光效率高,切焊線過程中對芯片無損傷;同時垂直LED芯片
金融界2024年11月4日消息,國家知識產(chǎn)權(quán)局信息顯示,昆山麥沄顯示技術(shù)有限公司申請一項名為“一種垂直LED芯片結(jié)構(gòu)及制作方法”的專利,公開號CN 118888671 A,申請日期為2024年7月。

專利摘要顯示,本申請公開了一種垂直LED芯片結(jié)構(gòu)及制作方法,包括導(dǎo)電襯底;所述導(dǎo)電襯底下設(shè)有背面金屬層;所述導(dǎo)電襯底上設(shè)有鍵合金屬層;所述鍵合金屬層上設(shè)有反射鍵合金屬層;所述反射鍵合金屬層上有歐姆接觸金屬層;所述歐姆接觸金屬層上設(shè)有鈍化絕緣層;所述鈍化絕緣層上設(shè)有外延材料層;所述外延材料層上設(shè)有絕緣保護層;所述絕緣保護層上設(shè)有金屬手指及焊盤電極本申請利用巨量轉(zhuǎn)移技術(shù)和先進封裝技術(shù),用micro LED芯片制作傳統(tǒng)尺寸的垂直LED芯片,成本低,不遮光,出光效率高,切焊線過程中對芯片無損傷;同時垂直LED芯片可集成更多的功能性器件;很好的解決了現(xiàn)有技術(shù)中存在的技術(shù)問題,提高了生產(chǎn)效率,滿足了企業(yè)生產(chǎn)需求,提升了企業(yè)競爭力。

本文源自:金融界

作者:情報員


 
 
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