據(jù)介紹,首批重大科技專(zhuān)項(xiàng)為:一是釩鈦稀土重大科技專(zhuān)項(xiàng);二是軌道交通重大科技專(zhuān)項(xiàng);三是集成電路與新型顯示重大科技專(zhuān)項(xiàng)。
其中,集成電路與新型顯示重大科技專(zhuān)項(xiàng)圍繞集成電路、新型顯示兩大領(lǐng)域,布局14項(xiàng)重大攻關(guān)任務(wù),著力研發(fā)15個(gè)重大創(chuàng)新產(chǎn)品,突破36項(xiàng)關(guān)鍵核心技術(shù)。新型顯示支持方向和重點(diǎn)如下:
全面屏柔性AMOLED顯示技術(shù)研究
(1)研究?jī)?nèi)容。面向柔性AMOLED全面屏超高屏占比、無(wú)開(kāi)口屏下攝像功能等需求,開(kāi)展柔性AMOLED面板多種像素密度混合驅(qū)動(dòng)設(shè)計(jì)、研制工藝和測(cè)試技術(shù)研究;研究攝像頭對(duì)應(yīng)區(qū)域高像素密度、高M(jìn)DL透過(guò)率、高亮度和高壽命顯示等關(guān)鍵技術(shù),相關(guān)指標(biāo)滿(mǎn)足產(chǎn)業(yè)化要求。
(2)考核指標(biāo)。突破關(guān)鍵技術(shù)3項(xiàng),申請(qǐng)或授權(quán)發(fā)明專(zhuān)利3件以上,形成全面屏產(chǎn)品2~3個(gè)。技術(shù)成果應(yīng)用于新一代屏下攝像手機(jī),形成真正意義上的全面屏。
(3)有關(guān)說(shuō)明。擬支持1項(xiàng),支持專(zhuān)項(xiàng)資金不超過(guò)1000萬(wàn)元;企業(yè)牽頭申報(bào),鼓勵(lì)產(chǎn)學(xué)研聯(lián)合申報(bào),自籌經(jīng)費(fèi)與申請(qǐng)專(zhuān)項(xiàng)資金比例不低于2:1。
高畫(huà)質(zhì)低功耗可折疊柔性AMOLED顯示技術(shù)研究
(1)研究?jī)?nèi)容。開(kāi)展柔性AMOLED超薄堆疊結(jié)構(gòu)仿真與設(shè)計(jì),降低功耗的同時(shí)不影響顯示畫(huà)質(zhì);研究開(kāi)發(fā)超薄可彎折高折射率材料,滿(mǎn)足厚度需求與信賴(lài)性測(cè)試標(biāo)準(zhǔn);開(kāi)展彎折堆疊設(shè)計(jì)研究,通過(guò)優(yōu)化堆疊設(shè)計(jì),避免EES結(jié)構(gòu)與現(xiàn)有堆疊發(fā)生分層、斷裂等。研發(fā)可折疊柔性AMOLED顯示產(chǎn)品,其彎曲半徑、功耗、顯示MDL反射率和厚度、常溫動(dòng)態(tài)彎折、溫濕度條件動(dòng)態(tài)彎折等技術(shù)指標(biāo)性能優(yōu)異。
(2)考核指標(biāo)。突破關(guān)鍵技術(shù)3項(xiàng),申請(qǐng)或授權(quán)發(fā)明專(zhuān)利3件以上,形成產(chǎn)品2-3個(gè)。技術(shù)成果應(yīng)用于高分辨率超薄柔性折疊終端屏,支持大尺寸柔性顯示終端制造。
(3)有關(guān)說(shuō)明。擬支持1項(xiàng),支持專(zhuān)項(xiàng)資金不超過(guò)1000萬(wàn)元;企業(yè)牽頭申報(bào),鼓勵(lì)產(chǎn)學(xué)研聯(lián)合申報(bào),自籌經(jīng)費(fèi)與申請(qǐng)專(zhuān)項(xiàng)資金比例不低于2:1。
8K激光移軸變焦投影關(guān)鍵技術(shù)研究
(1)研究?jī)?nèi)容。開(kāi)展基于振鏡組合DLP芯片的方案設(shè)計(jì),縮小光學(xué)系統(tǒng)體積;研究移軸鏡頭技術(shù),實(shí)現(xiàn)影像位置電動(dòng)調(diào)整;突破鏡頭自動(dòng)調(diào)焦技術(shù),解決調(diào)整后不同位置畫(huà)質(zhì)和解析度變差的問(wèn)題;突破振鏡自動(dòng)相機(jī)優(yōu)化技術(shù),實(shí)現(xiàn)振鏡參數(shù)最優(yōu)化,確保像質(zhì)最佳。研發(fā)高解析、高亮度、高色域8K激光移軸長(zhǎng)焦投影顯示產(chǎn)品。
(2)考核指標(biāo)。突破關(guān)鍵技術(shù)3項(xiàng),申請(qǐng)或授權(quán)發(fā)明專(zhuān)利3件以上,形成產(chǎn)品2~3個(gè)。技術(shù)成果應(yīng)用于激光投影顯示生產(chǎn)企業(yè),并實(shí)現(xiàn)批量化生產(chǎn)。
(3)有關(guān)說(shuō)明。擬支持1項(xiàng),支持專(zhuān)項(xiàng)資金不超過(guò)560萬(wàn)元;企業(yè)牽頭申報(bào),鼓勵(lì)產(chǎn)學(xué)研聯(lián)合申報(bào),自籌經(jīng)費(fèi)與申請(qǐng)專(zhuān)項(xiàng)資金比例不低于2:1。
超低散斑激光顯示光學(xué)屏技術(shù)研究
(1)研究?jī)?nèi)容。研究激光顯示中復(fù)合散斑的自相關(guān)特性和功率譜分布,建立復(fù)合散斑模型和實(shí)驗(yàn)方法,突破光學(xué)屏領(lǐng)域散斑抑制技術(shù);建立光學(xué)屏融合架構(gòu)的光學(xué)仿真、光利用效率的評(píng)價(jià)體系和測(cè)試方法,為行業(yè)提供更高效評(píng)價(jià)標(biāo)準(zhǔn),促進(jìn)行業(yè)技術(shù)升級(jí);研究基于微納結(jié)構(gòu)的表面光整形技術(shù),突破現(xiàn)有光擴(kuò)散技術(shù)的能量利用極限,提升屏幕的光利用效率,實(shí)現(xiàn)光機(jī)小型化、節(jié)能化的環(huán)保需求;開(kāi)展基于粒子的光散射、吸收和輻射模型研究,實(shí)現(xiàn)更優(yōu)異的光散射分布,達(dá)到超清與均勻畫(huà)質(zhì)的視覺(jué)效果。
(2)考核指標(biāo)。突破關(guān)鍵技術(shù)3項(xiàng),申請(qǐng)或授權(quán)發(fā)明專(zhuān)利3件以上,制定行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)1項(xiàng),形成產(chǎn)品2~3個(gè)。大尺寸高分辨率激光投影顯示屏產(chǎn)品在家用環(huán)境、影院環(huán)境等場(chǎng)景取得良好應(yīng)用示范效果。
(3)有關(guān)說(shuō)明。擬支持1項(xiàng),支持專(zhuān)項(xiàng)資金不超過(guò)560萬(wàn)元;企業(yè)牽頭申報(bào),鼓勵(lì)產(chǎn)學(xué)研聯(lián)合申報(bào),自籌經(jīng)費(fèi)與申請(qǐng)專(zhuān)項(xiàng)資金比例不低于2:1。
高世代產(chǎn)線(xiàn)用高精度掩膜版技術(shù)研究
(1)研究?jī)?nèi)容。開(kāi)展掩膜版涂布技術(shù)研究,掌握G6及以上產(chǎn)線(xiàn)高精度光阻涂布技術(shù),實(shí)現(xiàn)該尺寸領(lǐng)域光阻涂布技術(shù)自主化;開(kāi)展高精度激光直寫(xiě)技術(shù)研究,掌握高PPI圖形Mura控制技術(shù)、多圖形混版Mura控制技術(shù);開(kāi)展圖形精度測(cè)量及校正技術(shù)研究,掌握高精度DCM補(bǔ)償技術(shù);開(kāi)展高精度缺陷修復(fù)技術(shù)研究,掌握高PPI圖形、復(fù)雜圖形修復(fù)技術(shù)。
(2)考核指標(biāo)。突破關(guān)鍵技術(shù)3項(xiàng),申請(qǐng)或授權(quán)發(fā)明專(zhuān)利3件以上,形成產(chǎn)品2-3個(gè),研究成果應(yīng)用于G6及以上高精度二元及半色調(diào)掩膜版的生產(chǎn)制造。
(3)有關(guān)說(shuō)明。擬支持1項(xiàng),支持專(zhuān)項(xiàng)資金不超過(guò)560萬(wàn)元;企業(yè)牽頭申報(bào),鼓勵(lì)產(chǎn)學(xué)研聯(lián)合申報(bào),自籌經(jīng)費(fèi)與申請(qǐng)專(zhuān)項(xiàng)資金比例不低于2:1。
AMOLED用磷光發(fā)光材料國(guó)產(chǎn)化關(guān)鍵技術(shù)研究
(1)研究?jī)?nèi)容。開(kāi)展OLED發(fā)光材料有機(jī)分子發(fā)光過(guò)程激發(fā)態(tài)調(diào)控、分子設(shè)計(jì)、發(fā)光器件優(yōu)化等方面研究,完成OLED有機(jī)發(fā)光材料紅、綠、藍(lán)發(fā)光和主體材料結(jié)構(gòu)研制并滿(mǎn)足工業(yè)應(yīng)用,形成具有完全自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的有機(jī)磷光發(fā)光材料的國(guó)產(chǎn)化供應(yīng)。
(2)考核指標(biāo)。突破關(guān)鍵技術(shù)3項(xiàng),申請(qǐng)或授權(quán)發(fā)明專(zhuān)利3件以上,形成產(chǎn)品2~3個(gè),發(fā)光材料應(yīng)用于OLED生產(chǎn)廠家。
(3)有關(guān)說(shuō)明。擬支持1項(xiàng),支持專(zhuān)項(xiàng)資金不超過(guò)760萬(wàn)元;企業(yè)牽頭申報(bào),鼓勵(lì)產(chǎn)學(xué)研聯(lián)合申報(bào),自籌經(jīng)費(fèi)與申請(qǐng)專(zhuān)項(xiàng)資金比例不低于2:1。
大幅寬PMMA偏光片基膜關(guān)鍵技術(shù)研究
(1)研究?jī)?nèi)容。開(kāi)展大寬幅PMMA基膜制備關(guān)鍵技術(shù)研究,掌握光學(xué)樹(shù)脂共擠技術(shù)和共擠特種配方,克服PMMA材料脆性缺陷導(dǎo)致的邊部破膜問(wèn)題;掌握寬幅雙向同步光學(xué)拉伸技術(shù),在2.5米大寬幅、超薄、超高運(yùn)行機(jī)速情形下,位相差等光學(xué)性能均一。
(2)考核指標(biāo)。研制具有低透濕性、高透過(guò)率、位相差均一的大寬幅偏光片基膜,突破關(guān)鍵技術(shù)3項(xiàng),申請(qǐng)或授權(quán)發(fā)明專(zhuān)利3件以上,形成產(chǎn)品2~3個(gè),產(chǎn)品支撐新型顯示光學(xué)薄膜核心膜材國(guó)產(chǎn)化制備。在大寬幅偏光片生產(chǎn)廠家取得應(yīng)用。
(3)有關(guān)說(shuō)明。擬支持1項(xiàng),支持專(zhuān)項(xiàng)資金不超過(guò)560萬(wàn)元;企業(yè)牽頭申報(bào),鼓勵(lì)產(chǎn)學(xué)研聯(lián)合申報(bào),自籌經(jīng)費(fèi)與申請(qǐng)專(zhuān)項(xiàng)資金比例不低于2:1。(來(lái)源:四川省科學(xué)技術(shù)廳)